【芯片大戰】荷蘭計劃進一步限制向中國出口浸沒式DUV光刻機

荷蘭政府計劃對半導體技術出口實施新的管制，以阻止中國獲得關鍵的半導體技術。荷蘭外貿部長周三發給議員的信函，荷蘭政府擬提議限制浸沒式DUV光刻機的出口，這意味對最尖端光刻機出口管制進一步收緊，而這類產品恰好是生產全球最先進芯片的關鍵，而該規定預計將在夏季前公佈。

當局部長Liesje Schreinemacher在信中說，荷蘭認為，基於國家和國際安全的理由，有必要儘早控制這項技術。雖然荷蘭光刻機巨頭ASML（美：ASML）長期以來一直被禁止向中國企業出售其最先進的技術（極紫外光刻），但最新的提案等於是把比極紫外光刻更低一檔的產品也禁止了。

ASML發布聲明表示，預計必須申請許可證方可出口最先進的浸沒式DUV設備。同時表示「新的出口管制措施並不針對所有浸潤式光刻系統，先進程度相對較低的浸潤式光刻系統已能很好滿足成熟製程為主的客戶的需求」。公司亦指，這些措施將「不會對2023年或更長時期的財務展望產生重大影響」。

如果ASML所言屬實，那麼荷蘭的新規定可能達不到美國對本國芯片設備行業施加的限制標準。ASML的美國競爭對手目前的經營受到多項制約，包括機器可以生產甚麼產品，以及是否可以派人到中國工作。

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編輯：姚卓然