中芯國際:深圳廠進口荷蘭設備並非EUV光刻機 何為EUV、DUV?

即市財經 21:20 2020/03/06

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中芯國際澄清,深圳廠進口的荷蘭設備,並非早前引起廣泛關注的EUV光刻機。

半導體產業國產替代是中美貿易戰以來市場焦點,早前有指荷蘭半導體設備製造商ASML(美:ASML)因美方施壓,暫停向中芯國際 (00981) 交付高端設備。今日有報道指,中芯國際深圳廠從荷蘭進口一台大型光刻機,並已順利入廠。中芯澄清,該台設備並非早前引起廣泛關注的EUV(極紫外光)光刻機。

據悉,新進口的機器主要用於復工復產後的生產線擴容,擴容後預計可為企業增加10%左右的營收。

業界揣測該台機器應該為DUV(深紫外光)光刻機,可用於製造28nm(納米)至7nm之間的各種晶片,但7nm以下的先進製程則需用到EUV光刻機,DUV光刻機的售價較EUV光刻機的售價便宜一半以上。

晶片效能多年來維持不斷提升,其中一個關鍵是縮減電晶體間隔,積體電路上可容納的電晶體數目大約18個月至24個月就可增加一倍,即行內有名的「摩爾定律(Moore's law)」。

隨近年間隔已縮至納米級,令業界關注摩爾定律能否維持,台積電、三星等國際巨頭已產用EUV技術,令製程工序向7nm 或以下進軍。

目前中芯國際最先進製程為FinFET 14nm,公司早前曾表示今年將擴大14納米產能。

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